自動拋光機操縱的樞紐是要想法(fa)得到(dao)最(zui)大的拋(pao)光速率(lv)，以(yi)便盡快除(chu)去(qu)磨光時(shi)產(chan)生的損(sun)傷層。同(tong)時(shi)也要使拋(pao)光損(sun)傷層不(bu)(bu)會影響終極觀察到(dao)的組織(zhi)，即不(bu)(bu)會造成(cheng)假(jia)組織(zhi)。

　　前(qian)者要求(qiu)(qiu)使用較(jiao)粗的(de)磨(mo)料，以(yi)保(bao)證有較(jiao)大(da)的(de)拋光速率來去(qu)除磨(mo)光的(de)損(sun)傷層，但拋光損(sun)傷層也(ye)較(jiao)深；后(hou)者要求(qiu)(qiu)使用最細的(de)材料，使拋光損(sun)傷層較(jiao)淺(qian)，但拋光速率低。

　　解決(jue)這個(ge)矛(mao)盾的最好的辦法就是(shi)把(ba)拋(pao)光(guang)(guang)分為兩個(ge)階段進(jin)行。粗拋(pao)目的是(shi)去(qu)除磨光(guang)(guang)損傷層(ceng)(ceng)，這一階段應具有最大的拋(pao)光(guang)(guang)速率，粗拋(pao)形(xing)成的表層(ceng)(ceng)損傷是(shi)次要的考(kao)慮，不外也應當盡(jin)可能小；

　　其(qi)次是精拋(pao)(pao)(pao)(或稱終拋(pao)(pao)(pao))，其(qi)目的是去(qu)除粗拋(pao)(pao)(pao)產生的表層損(sun)傷(shang)，使拋(pao)(pao)(pao)光(guang)損(sun)傷(shang)減(jian)到最(zui)小。

　　自動(dong)拋(pao)(pao)光機拋(pao)(pao)光時，試(shi)樣磨面與拋(pao)(pao)光盤(pan)應絕對(dui)平行并平均地輕(qing)壓在拋(pao)(pao)光盤(pan)上，留(liu)意防止(zhi)試(shi)樣飛出(chu)和因(yin)壓力(li)太大而產生新磨痕。

　　同(tong)時(shi)還應使試樣自(zi)轉并沿(yan)轉盤(pan)半徑方向往返移動(dong)，以避免拋光(guang)(guang)織物局部磨損太快在拋光(guang)(guang)過程中要(yao)不(bu)斷添加微粉懸浮(fu)液(ye)，使拋光(guang)(guang)織物保持一定濕(shi)度。

　　濕(shi)度太(tai)大會減(jian)(jian)弱拋光的磨痕作(zuo)用，使試樣(yang)中(zhong)硬相(xiang)呈現(xian)浮凸和鋼(gang)中(zhong)非金屬夾雜物及鑄(zhu)鐵中(zhong)石墨相(xiang)產生(sheng)“曳尾”現(xian)象；濕(shi)度太(tai)小(xiao)時，因為摩擦生(sheng)熱(re)會使試樣(yang)升溫，潤滑作(zuo)用減(jian)(jian)小(xiao)，磨面(mian)失去(qu)光澤，甚至泛起黑斑，輕合金則會拋傷表(biao)面(mian)。

　　為了(le)達到粗拋(pao)的(de)(de)目的(de)(de)，要求(qiu)轉盤轉速較低(di)，最好(hao)不要超(chao)過600r/min；拋(pao)光時間應當比(bi)去掉劃痕所需的(de)(de)時間長些(xie)，由于還(huan)要去掉變形(xing)層。

　　粗拋后磨面光(guang)滑，但(dan)黯淡(dan)無光(guang)，在(zai)顯微鏡下觀察有平(ping)均細致(zhi)的磨痕(hen)，有待精(jing)拋消除。