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拋光機的拋光速率低的解決方法

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拋光機的拋光速率低的解決方法

發布日期:2017-05-16 作者: 點擊:

  拋(pao)光(guang)機是一種常用的電(dian)動(dong)工具,拋(pao)光(guang)機由底(di)座(zuo)、拋(pao)盤、拋(pao)光(guang)織物、拋(pao)光(guang)罩及蓋等基本(ben)元件組成。下面,我們來作一個(ge)簡單認識(shi)。

  當電動(dong)機(ji)固定(ding)在底(di)座上的(de)時候,固定(ding)拋(pao)(pao)光(guang)盤(pan)(pan)用(yong)的(de)錐套(tao)通(tong)過(guo)螺釘(ding)與電動(dong)機(ji)軸(zhou)相連。拋(pao)(pao)光(guang)織物(wu)通(tong)過(guo)套(tao)圈緊(jin)固在拋(pao)(pao)光(guang)盤(pan)(pan)上,電動(dong)機(ji)通(tong)過(guo)底(di)座上的(de)開關(guan)接(jie)通(tong)電源起(qi)動(dong)后,便可(ke)(ke)用(yong)手對(dui)試樣施(shi)加壓力(li)在轉動(dong)的(de)拋(pao)(pao)光(guang)盤(pan)(pan)上進行拋(pao)(pao)光(guang)。拋(pao)(pao)光(guang)過(guo)程中加入的(de)拋(pao)(pao)光(guang)液(ye)可(ke)(ke)通(tong)過(guo)固定(ding)在底(di)座上的(de)塑(su)料盤(pan)(pan)中的(de)排水(shui)管流入置于拋(pao)(pao)光(guang)機(ji)旁的(de)方盤(pan)(pan)內(nei)。 拋(pao)(pao)光(guang)罩及蓋可(ke)(ke)防止灰(hui)土及其(qi)他(ta)雜物(wu)在機(ji)器不使(shi)用(yong)時落(luo)在拋(pao)(pao)光(guang)織物(wu)上而影響(xiang)使(shi)用(yong)效(xiao)果。

  拋光機的(de)(de)拋光速率低解決這個(ge)(ge)矛盾(dun)的(de)(de)最(zui)好(hao)的(de)(de)辦(ban)法就(jiu)是把拋光分為(wei)兩個(ge)(ge)階段進行(xing)。

  粗拋(pao)目(mu)的(de)(de)是(shi)去除磨(mo)(mo)光(guang)損(sun)(sun)傷(shang)層,這一階段應具(ju)有(you)最大(da)的(de)(de)拋(pao)光(guang)速率,粗拋(pao)形(xing)成的(de)(de)表層損(sun)(sun)傷(shang)是(shi)次要的(de)(de)考慮,不過也應當盡可能(neng)小(xiao)(xiao);其次是(shi)精拋(pao)(或稱(cheng)終拋(pao)),其目(mu)的(de)(de)是(shi)去除粗拋(pao)產生的(de)(de)表層損(sun)(sun)傷(shang),使拋(pao)光(guang)損(sun)(sun)傷(shang)減到最小(xiao)(xiao)。拋(pao)光(guang)機(ji)拋(pao)光(guang)時,試樣磨(mo)(mo)面與拋(pao)光(guang)盤應絕對平行(xing)并均勻地輕壓(ya)在拋(pao)光(guang)盤上,注意(yi)防止(zhi)試樣飛出和(he)因壓(ya)力太大(da)而(er)產生新磨(mo)(mo)痕。

  同時(shi),還應(ying)使試樣(yang)自轉并沿(yan)轉盤半徑方向來(lai)回移(yi)動,以避免(mian)拋(pao)光(guang)織物(wu)局(ju)部磨損太(tai)快在拋(pao)光(guang)過(guo)程中要不斷添(tian)加微粉懸(xuan)浮液,使拋(pao)光(guang)織物(wu)保(bao)持一定濕度(du)。濕度(du)太(tai)大會減弱拋(pao)光(guang)的磨痕(hen)作用,使試樣(yang)中硬(ying)相(xiang)呈現(xian)浮凸(tu)和(he)鋼(gang)中非金屬(shu)夾雜物(wu)及鑄鐵中石墨相(xiang)產生“曳尾”現(xian)象(xiang);濕度(du)太(tai)小(xiao)時(shi),由于摩擦生熱會使試樣(yang)升溫,潤滑作用減小(xiao),磨面失(shi)去光(guang)澤,甚至出現(xian)黑斑,輕合金則會拋(pao)傷表面。

  當(dang)然,我們為了(le)達到粗拋(pao)(pao)的(de)目的(de),要求轉(zhuan)盤(pan)轉(zhuan)速較低,最(zui)好(hao)不要超(chao)過600r/min;拋(pao)(pao)光時間應當(dang)比去掉劃痕所(suo)需(xu)的(de)時間長些(xie),因為還要去掉變形層。粗拋(pao)(pao)后磨面光滑,但黯淡無光,在(zai)顯微(wei)鏡下觀察有(you)均勻細致的(de)磨痕,有(you)待精拋(pao)(pao)消(xiao)除。


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